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第141章 光刻机难么一点都不难（第2页）

连那些想提出质疑的人，看完设计图后，都不由冒出了‘就该这么设计’的想法，实在挑不出什么毛病。

“就按叶总的设计方案，把新的光刻机组装出来！”

贺光拍板道。

很快。

上千人连续加班加点了五天。

新款的改进型dUV光刻机，成功组装了出来。

在实验室内试用了一番。

光刻清晰度有了极大提高。

稳定性至少提高了十倍。

连光刻功率、速度和效率，都有了五成以上的提高。

较之前的那款dUV光刻机，简直有了脱胎换骨的进化。

甚至连制造成本，都降低了大约15%，且更容易批量化生产。

再然后，这台改进版的光刻原型机，被送到了龙兴芯片公司的工厂，用于小芯粒的套刻生产，并很快传来了振奋人心的消息！

新款的dUV光刻机特别好用，小芯粒的良率，提高到了98.5%，完全达标！

连续工作24小时后，没有出现任何故障。

且光刻精度高、速度快，能满足小芯粒大批量生产的需求。

所以那台dUV光刻原型机，不必再返厂改进了，直接放在代工厂使用吧。另外务必要增加该型光刻机的产能，至少要生产出五十台、一百台、数百台，才能满足龙国整个芯片市场的需要，彻底解决芯片荒的问题。

得到这些反馈。

东海微电子公司内，顿时沸腾一片，欢呼震天！

“我服了，我服了！叶神就是叶神，只要他一出马，再难的问题都能解决！”

“光刻机对我们可能很难，但对叶神而言，半点难度都没有！”

“我这人一直自视甚高，自认有几分本事，今天才算是打开了井盖，看到天外有天，我经常为解决了几个技术难点而沾沾自喜，但跟叶神一比，我连渣都不是！而我之前还在心里吐槽叶神，可笑至极！”

“我也服了，这就是人跟神的差距，我认为更先进的EUV光刻机，叶神也能轻松搞定，最多也只要半个月时间！”

“EUV还是我们自己来吧，叶神说了，他设计的光刻机内部构造，稳定性高，还有很大的拓展性，而EUV最大的难点，是光源比较难搞定，其它跟dUV没有太大差别的，而我们国内的某研发机构，不是利用特殊晶体激发激光的方式，把深紫外光源搞定了么？也就是说，EUV光刻机，也能很快造出来了？”

“既然这样，叶神不需要再跑第二趟了，我们该支棱起来了！”

“话说叶神人呢？怎么没看到他，我想跟他握握手，再抱抱他的大腿，他以后就是我信仰的神明了。”

“叶神他已经回去了，怎么可能一直待在这里？对他这样的人而言，解决光刻机问题，就是随手解决个小boSS罢了，他还有更多的事要处理。”

“哎，叶神怎么就走了呢？我都没要到他的签名，还没有给他道歉认错，没有跟他一起举杯喝庆功酒，他为什么不能再多待一天呢？”

“这就是‘事了拂衣去，深藏功与名’啊，叶神的境界，我等是永远都达不到的啊。”

“行了别闲聊了，继续干活吧，咱们国家的芯片荒越来越严重，没时间浪费了，马上组装更多的‘叶神改进版’光刻机出来吧。”

“是！干活干活。”

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